关于迟军授权专利的公示
 
发布时间:2018-07-04 16:39    供稿部门:研究生部

      根据上海有关部门2018年非上海生源毕业生申请进沪材料,“非上海生源毕业生在本人最高学历学习期间获得发明专利证书(验原件,专利登记副本不受理)且对该项发明创造的实质性特点作出创造性贡献的,须提供以下材料:经学校(或研究生培养单位)就业工作部门在本校网站上公示无异议、由指导教师签名的书面证明材料原件”之规定,我所学生迟军提出专利公示申请,现将该生的专利情况公示如下:

 

申请人:迟军

单位:中国科学院大连化学物理研究所

专利名称:一种阴离子交换膜上附着的超薄催化层及其制备和应用

专利号:ZL 2014 1 0720355.8

公示时间:2018年7月5日至2018年7月18日

 

公示期间,如有异议者请与研究生部联系

 

联系电话:0411-84379011

联系人:熊川男